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KOKUSAN科库森 H840SA 对向式离心干燥机行业应用与量产案例解析

更新时间:2026-07-01点击次数:25

H840SA 为双工位对向式离心干燥机,核心定位:大批量薄型晶圆 / 脆性精密工件湿法清洗后无水痕脱水,低震动防裂片、产能翻倍,适配 Class100 百级无尘车间自动化产线。

一、五大核心应用行业

1、半导体晶圆制造

适用产品

6 英寸硅抛光片、超薄外延片、碳化硅 SiC 晶圆、砷化镓 GaAs 衬底、晶圆切割后裂片、光刻 / 蚀刻 / 研磨后湿法清洗脱水

工序节点

RCA 清洗→纯水漂洗→H840SA 离心干燥→涂胶 / 氧化扩散

设备适配逻辑

双向对转抵消震动,800rpm 温和转速,超薄晶圆崩边、裂片率大幅降低;双花篮同步加工,小时产能是单轴 SPD-180 机型 2 倍,适配 7×24h 连续量产;自带离子除静电 + ULPA 层流风,杜绝水印、微粒吸附。

2、光电子 / 光学元件行业

适用产品

光学玻璃镜片、红外镜片、蓝宝石衬底、棱镜、微型摄像头玻璃盖板、石英晶片

痛点解决

玻璃脆性大,高速离心易崩边;H840SA 低震运行,清洗后纯水快速脱水,无水印划痕,满足光学镀膜前超高洁净要求。

3、第三代半导体 & 新材料

碳化硅、氮化铝、氮化镓功率衬底、陶瓷基板、压电陶瓷薄片、精密氮化铝散热基板清洗干燥;薄片翘曲、碎裂风险高,对向式结构应力更小,量产良率更稳。

4、微电子封装 & 精密电子

COB 基板、引线框架、Mini/Micro LED 外延片、芯片载具、陶瓷治具、精密端子超声波清洗后脱水;小零件批量处理,双工位提升产线吞吐效率。

5、科研院所 & 材料实验室

高校微电子实验室、第三方半导体检测机构、材料研发中试线;小批量打样 + 中试量产两用,兼容多尺寸晶圆切换,工艺参数可编程调试。





产品:6 英寸抛光硅片,月产能 80万片 

改造前:2 台 SPD-180 单轴干燥机,小时产能合计 750 片,人员换篮频繁、设备震动偏大,超薄片碎片率 0.32% 

导入方案:2 台 H840SA 对向式干燥机,接入全自动清洗连线 


碳化硅衬底企业(脆性薄片专用)

产品:4 英寸 SiC 碳化硅衬底,薄片厚度≤350μm,极易碎裂 

工艺:研磨→酸碱清洗→纯水漂洗→离心干燥 

选型理由:SPD-180 高转速离心应力过大,批量破损严重;H840SA 对向低震结构,离心应力均匀抵消 

效果:批量良率从 95.1% 提升至 99.4%,适配百级无尘自动化产线,长期稳定量产


光学镜片加工厂(镀膜前干燥工序)

产品:手机 / 车载摄像头玻璃镜片 

痛点:普通烘干有水渍、水印,镀膜出现不良;单工位甩干产能不足 

配置 H840SA:双筐同步甩干,离子中和静电避免粉尘吸附,干燥后镜片良率提升,产线节拍匹配前后清洗、镀膜工序


半导体材料研究所(研发 + 小批量中试)

需求:2/3/4/6 英寸多规格晶圆打样、新材料衬底试验 

H840SA 优势:可灵活切换 2 篮 6 寸、4 篮 5 寸及以下花篮;PLC 自定义升降速工艺曲线,兼顾研发多变工艺与小批量试产,替代多台小型单轴甩干机,节省无尘车间占地。



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