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型号:SPD160RN

日本OKK大宫工业 Spin Dryer SPD系列 是专为半导体制造工艺设计的晶圆离心脱水设备,主要用于清洗后晶圆(2–12英寸)的高效、无污染干燥。OKK大宫自动平衡技术(FAB)‌与‌洁净室兼容...

型号:Spin Dryer

日本OKK大宫工业 Spin Dryer SPD系列 是专为半导体制造工艺设计的晶圆离心脱水设备,主要用于清洗后晶圆(2–12英寸)的高效、无污染干燥。OKK大宫自动平衡技术(FAB)‌与‌洁净室兼容...

型号:电子天平GX-42001L

日本爱安德防水工业天平AND/超大量程称重仪AND爱安德‌(A&D)是日本的高精度测量设备制造商,专注于称重、测量与控制技术的研发,其电子称重设备广泛应用于‌实验室、工业生产、制药、食品加工及...

型号:KK-300SS/SSE

KURABO日本仓纺真空式脱泡搅拌设备KURABO KK-300SS/SSE‌ 是日本仓纺(KURABO)旗下 MAZERUSTAR 系列的高性能行星式混合搅拌脱泡机,专为高粘度、高附加值材料的‌无污...

型号:4英寸M100-100

FLUORO/日本福乐4英寸半导体晶圆操作手动棒FLUORO福乐真空吸笔‌ 是专为半导体、精密电子制造和洁净室环境设计的高精度拾取工具,广泛应用于晶圆搬运、芯片贴装、光学元件装配等对静电防护与无损操作...

型号:

HOYA豪雅光学UV光源,日本HOYA豪雅UV固化设备,CHINA区域现货代理。EXECURE 4000-DHOYA的紫外(UV)相关技术可能应用于工业固化领域,印刷/涂装行业:UV光源用干油墨、涂料...

型号:UV胶水点胶

MUSASHI武藏高精株式会社点胶机,从手工作业到自动机搭载,广泛地支持生产现场的需要。用于对流体进行控制,并将流体点滴、涂覆于产品表面或产品内部的自动化机器,使用液体:UF剂、银浆、密封材料、涂层剂...

型号:调压阀

PISCO匹士克气源处理装置 调压阀,可选择压力计的有无,旋钮位置(上或下)。按压锁定式旋钮可一键式锁定。提供旋钮位置在本体下方的下旋钮产品。附属压力表有直接安装型压力计、带双画面数码显示与传感器、数...

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关于我们

SUZUTA铃田(上海)科技有限公司主要经营代理日本各类工业品:HOYA豪雅(固化光源),MUSASHI武藏点胶机(点胶机),PISCO匹士克,Aitec艾泰克,OPTEX-FA奥泰斯,EMIC電子磁気工業,FLUORO福乐,NIKKATO日陶,SODICKF.T沙迪克四角直尺高精度测量,TOGAWA十川,日本MicroSquare一库,aicohsha爱工舍ACM(立式搅拌机),日本KURABO仓纺脱泡机,日本THINKY日新基脱泡机,KLEENTEK可滤特(静电净油机),TAGAWA十川(软...
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技术文章

  • 发布时间

    20269-24

    低氟离子溶出!PILLAR皮拉超洁净PFA管半导体高纯流体输送

    高纯流体输送升级!PILLAR皮拉新型超洁净PFA管助力半导体湿法工艺PFA管、氟塑料制品、半导体管路、低离子溶出、高纯化学品输送【行业快讯】在半导体、精细化工等高洁净流体输送领域,管路材质的离子析出、微粒释放与耐化学性能,直接影响生产稳定性与产品良率。随着国内晶圆产线、电子化学品项目持续扩产,市场对超洁净氟树脂管材的需求持续提升。日本PILLAR皮拉推出PILAFLON™新型超洁净PFA管,针对高纯药液输送痛点优化材料配方与成型工艺,为高腐蚀、高洁净工况提供管路...

  • 发布时间

    20269-23

    CMP研磨液用什么泵?半导体晶圆抛光浆料输送泵推荐

    CMP研磨液含有固体颗粒,易沉降团聚,对输送泵洁净度、压力稳定性要求高。CMP研磨液可选用PILLAR皮拉PC系列气动波纹管泵,型号含PC-10MB、PC-20MB、PC-40MB及传感器款,PFA接液无轴封,搭配PA-C蓄能器实现低脉动输送,适用于半导体晶圆抛光浆料输送。问:CMP研磨液用什么泵输送比较合适?答:CMP研磨液内含有大量无机固体颗粒,介质具备磨蚀性,静置易沉降、团聚。普通泵型容易出现内部积料结块、机械密封磨损产生颗粒、出口压力波动大等问题,直接影响晶圆抛光良率...

  • 发布时间

    20269-23

    半导体CMP浆料输送难点解析---PILLAR 皮拉PC系列气动波纹管泵选型参考

    CMP研磨液固体颗粒含量高,输送时极易沉降团聚,压力脉动与密封磨损产生的微颗粒会直接影响晶圆良率。本文解析CMP浆料输送痛点,介绍PILLAR皮拉PC系列气动波纹管泵PC-10MB、PC-20MB、PC-40MB,PFA接液无轴封结构,搭配PA-C蓄能器实现低脉动供料,适配半导体晶圆抛光回路。半导体CMP(化学机械抛光)是晶圆制造的核心工序,研磨浆料中含有大量无机固体颗粒,这类介质具有易沉淀、易团聚、有磨蚀性的特点。普通输送泵常遇到积料结块、密封磨损掉颗粒、出口压力波动大等问...

  • 发布时间

    20269-23

    PILLAR皮拉 PC系列气动波纹管泵,半导体CMP研磨液输送浆液泵

    PILLAR波纹管泵,皮拉波纹管泵,CMP研磨液泵,半导体浆料泵,气动波纹管泵,CMP工艺研磨液输送泵,晶圆抛光浆料泵,PFA接液波纹管泵半导体晶圆制造CMP化学机械抛光工序,对研磨浆料输送设备有着严苛要求。CMP研磨液含大量固体颗粒,易沉降、团聚,输送过程一旦产生颗粒污染或压力波动,会直接影响晶圆抛光良率。株式会社PILLAR皮拉推出PC系列气动波纹管泵,专为CMP研磨浆料输送、旁路循环工况打造,是半导体抛光产线常用的高纯浆料输送设备。PILLAR皮拉PC系列CMP研磨液泵...

  • 发布时间

    20269-23

    半导体药液供给装置核心部件:PILLAR PD-1000R 光刻胶专用定量泵

    近日,株式会社PILLAR(皮拉)PD-1000R气动波纹管定量泵在半导体光刻供液领域获得广泛应用,该款泵作为药液供应装置核心计量单元,专为光刻胶等高粘度光敏药液的精密吐出开发,为半导体、FPD面板行业高纯化学品供给提供稳定可靠的流体控制方案。随着半导体制造工艺持续升级,光刻涂布工序对药液吐出一致性、洁净度、颗粒控制提出严苛要求。光刻胶属于高粘度光敏介质,微小吐液偏差、杂质析出、气泡冲击都会直接影响涂布膜厚,造成晶圆良率损失。PILLARPD-1000R正是针对该行业痛点开发...

  • 发布时间

    20269-22

    PILLAR皮拉PFA挠性波纹管接头,破解半导体湿制程管路应力与污染难题

    随着半导体先进制程迭代、晶圆产能扩容,湿制程超高纯流体输送、低颗粒污染控制、管路稳定性成为设备运维核心痛点。针对行业普遍存在的管路热胀冷缩、泵体振动、硬管应力开裂、药液滞留析出等难题,进口流体管件品牌PILLAR皮拉全新优化P-FTF系列PFA挠性波纹管接头,为UHP超高纯管路系统提供标准化柔性补偿解决方案。据悉,P-FTF系列为PILLARSuper300P系列配套原装柔性管件,整机采用高纯PFA材质,搭配PFA+PTFE复合密封结构,具备耐高低温、强耐腐蚀、低金属离子析出...

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