在半导体晶圆制造、湿法清洗、药液供给等核心工艺中，流体输送的洁净度、流量稳定性、温度适配性直接决定制程良率与产品精度。酸碱腐蚀药液、高纯试剂的输送过程中，金属离子析出、流量脉动波动、中温工况适配不足等问题，始终是制约半导体精密制程升级的关键痛点。日本PILLAR皮拉深耕高纯流体输送领域，推出的SPELATM300 PS系列中温风囊泵，凭借一体化蓄压结构、全氟洁净材质、宽温域稳定运行能力，精准适配半导体中温药液输送场景，成为半导体流体管路的核心配套设备。
日本 PILLAR 皮拉 SPELATM300 PS 系列中温风囊泵，型号 PS-10MA、PS-20MA、PS-30M、PS-40MA，泵体一体化蓄压，低脉动出液；PFA/PTFE 接液，高洁净无金属离子析出，适用于半导体药液供给管路、湿法清洗酸碱药液输送，中温 10~100℃。
一、核心结构革新：一体化蓄压，实现超低脉动精密出液
传统流体输送泵普遍存在脉冲波动大、管路水压冲击、流量不稳定的问题，极易造成晶圆清洗不均、药液配比偏差，大幅影响半导体制程精度。PILLAR SPELATM300 PS系列风囊泵采用泵体一体化蓄压集成设计，摒弃传统外置蓄压罐的繁琐结构，将蓄压功能与泵体一体化融合，从结构根源优化流体输送状态。
该创新结构可有效缓冲流体输送过程中的压力波动，解决风囊泵往复运动产生的出液脉动问题，实现低脉动平稳出液，管路流体压力、流量持续均匀，无冲击、无波动。既避免了脉动导致的晶圆表面微损伤、清洗纹路不均等工艺缺陷，又减少了管路震动、接口渗漏等设备故障，大幅提升半导体生产线的运行稳定性与制程一致性，适配精密湿法制程的严苛流体要求。
二、高纯材质加持：无金属析出，适配严苛洁净制程
半导体药液多为强酸、强碱、高纯有机溶剂，对输送设备的耐腐蚀性、洁净度要求，普通金属泵体易发生腐蚀、析出金属离子，造成药液污染、晶圆掺杂不良，直接降低产品良率。PILLAR PS系列全系搭载PFA/PTFE全氟接液材质，核心过液部件无金属接触，从源头杜绝金属离子析出风险。
PFA、PTFE材质具备的耐化学腐蚀性，可耐受各类半导体常用酸碱药液、高纯试剂的长期冲刷腐蚀，同时材质本身不吸附、不析出、不污染药液，能够持续维持管路药液的超高洁净度。半导体芯片制造的无尘、高纯工艺标准，适配超纯水、光刻胶、显影液、蚀刻液、清洗液等各类流体输送场景，有效规避制程污染问题，保障产品品质稳定。
三、宽温域稳定运行：精准覆盖半导体中温工艺工况
半导体湿法清洗、药液循环供给等工艺常伴随中温作业环境，常规泵体耐高温性能不足，易出现密封老化、流量衰减、结构变形等问题，无法适配连续化生产需求。SPELATM300 PS系列为专业中温型风囊泵，专属适配10℃~100℃宽温域工况，匹配半导体中温药液输送、恒温循环制程需求。
设备在全温域范围内可保持性能恒定，无高温流量衰减、低温启动卡顿问题，结构密封性、流体输送精度全程稳定，可长期适配生产线连续不间断作业。相较于普通常温泵，该系列产品工况适配性更强、使用寿命更长，大幅降低设备更换频次与生产线停机成本，适配半导体规模化、精细化生产需求。
四、全型号矩阵覆盖：多流量适配多元制程场景
为匹配半导体生产线不同流量、不同工位的输送需求，PILLAR SPELATM300 PS系列打造完整型号矩阵，包含PS-10MA、PS-20MA、PS-30M、PS-40MA四大核心型号，流量梯度覆盖广，可精准匹配实验室小流量供液、生产线批量循环供液、大型设备集中输送等多元场景。
全系型号延续一体化蓄压、全氟洁净材质、中温耐受的核心优势，结构紧凑、安装便捷、运维简单，无需复杂调试即可快速适配现有管路系统，兼容性。各型号性能参数稳定、精度一致，可根据生产线工位需求灵活选配，实现全制程流体输送标准化、精细化管控。
五、核心应用场景：聚焦半导体精密流体输送
依托低脉动、高洁净、耐中温、耐腐蚀的综合优势，PILLAR SPELATM300 PS系列中温风囊泵精准聚焦半导体制程，核心应用场景覆盖全面：
半导体药液供给管路：各类酸碱药液、高纯试剂、光刻配套药液的恒温输送与稳定供给，保障药液浓度、流量恒定；
湿法清洗制程：晶圆酸碱清洗、去胶清洗、超纯水清洗等工位的流体输送，避免脉动冲刷造成的晶圆损伤，保障清洗均匀度；
高纯流体循环系统：电子级超纯水、精密制程溶剂的循环输送，杜绝二次污染，满足高纯制程标准；
中温精密流体工况：10~100℃区间内各类半导体药液的连续输送、恒温循环作业。
六、产品核心价值总结
日本PILLAR皮拉SPELATM300 PS系列中温风囊泵，针对性解决半导体流体输送中的脉动不稳定、金属污染、中温适配差、药液腐蚀四大核心痛点。一体化蓄压结构保障超低脉动精密输送，全氟材质实现高纯无析出洁净制程，10~100℃宽温域适配中温工艺，全梯度型号覆盖多元生产场景。
作为半导体精密流体输送的核心配套设备，该系列产品凭借高稳定性、高洁净度、高适配性、低运维成本的优势，助力半导体企业优化制程精度、提升产品良率、降低生产损耗，是半导体湿法工艺、药液供给系统的优选流体输送方案。
更新时间：2026-09-20
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