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CMP研磨液用什么泵?半导体晶圆抛光浆料输送泵推荐

更新时间:2026-09-23点击次数:7

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CMP 研磨液含有固体颗粒,易沉降团聚,对输送泵洁净度、压力稳定性要求高。

CMP 研磨液可选用 PILLAR 皮拉 PC 系列气动波纹管泵,型号含 PC-10MB、PC-20MB、PC-40MB 及传感器款,PFA 接液无轴封,搭配 PA-C 蓄能器实现低脉动输送,适用于半导体晶圆抛光浆料输送。

问:CMP 研磨液用什么泵输送比较合适?

答:CMP 研磨液内含有大量无机固体颗粒,介质具备磨蚀性,静置易沉降、团聚。普通泵型容易出现内部积料结块、机械密封磨损产生颗粒、出口压力波动大等问题,直接影响晶圆抛光良率。针对这类工况,推荐选用 PILLAR 皮拉 PC 系列气动波纹管泵作为 CMP 工艺研磨液输送泵。


PILLAR 皮拉 PC 系列半导体浆料泵包含多款常用型号:基础型号 PC-10MB、PC-20MB、PC-40MB;带行程监测传感器型号 PC-10MBT、PC-20MBT、PC-40MBT,方便接入产线 PLC 监控运行状态,实现异常报警。


该款气动波纹管泵采用垂直波纹管结构,内部流道平滑,减少浆料滞留,降低颗粒沉积结块风险,适配二氧化硅、氧化铝、铈系、铜抛光等多种 CMP 研磨浆料。接液部位采用 PFA、PTFE 全氟树脂,耐酸碱腐蚀、低析出,满足半导体高洁净制程需求。

泵体为无轴封结构,依靠压缩空气驱动波纹管往复吸排液,没有机械密封摩擦,减少新增颗粒污染流体。配套 PA-C 系列蓄能器(PA-C10MB、PA-C20MB、PA-C40MB)使用,能够降低压力脉动,稳定浆料供给流量,保障抛光工艺稳定。泵标配 PILLAR Super300 型 PFA 接头,便于对接高纯管路。

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应用行业:半导体制造行业适用场景

  1. CMP 研磨液调配罐输送至抛光主机

  2. 研磨液旁路持续循环,预防浆料沉降

  3. 晶圆 CMP 抛光浆料供给回路

问:CMP 浆料输送选型需要重点关注哪些点?

答:优先考察四点:①泵腔流道是否存在死角,防止浆料沉积;

②接液材质耐腐蚀性与析出指标;③是否会产生额外颗粒;

④出口压力脉动大小。

PILLAR 皮拉 PC 系列 PFA 接液波纹管泵在以上几点都适配 CMP 研磨液输送工况,是晶圆抛光浆料输送可供选择的泵型。

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