半导体CMP浆料输送难点解析---PILLAR 皮拉PC系列气动波纹管泵选型参考

CMP 研磨液固体颗粒含量高，输送时极易沉降团聚，压力脉动与密封磨损产生的微颗粒会直接影响晶圆良率。

本文解析 CMP 浆料输送痛点，介绍 PILLAR 皮拉 PC 系列气动波纹管泵 PC-10MB、PC-20MB、PC-40MB，PFA 接液无轴封结构，搭配 PA-C 蓄能器实现低脉动供料，适配半导体晶圆抛光回路。

半导体 CMP（化学机械抛光）是晶圆制造的核心工序，研磨浆料中含有大量无机固体颗粒，这类介质具有易沉淀、易团聚、有磨蚀性的特点。普通输送泵常遇到积料结块、密封磨损掉颗粒、出口压力波动大等问题，进而造成抛光速率不稳定、晶圆表面缺陷增多，是半导体流体输送环节的常见难题。

针对 CMP 研磨液的输送工况，株式会社 PILLAR 皮拉 PC 系列气动波纹管泵专门优化流路结构，为 CMP 工艺研磨液输送、浆料旁路循环提供解决方案。产品包含基础款 PC-10MB、PC-20MB、PC-40MB；带行程监测传感器型号 PC-10MBT、PC-20MBT、PC-40MBT，可接入 PLC 做在线状态监控。

PC 系列波纹管泵采用垂直波纹管结构，泵腔内部流道平滑，降低浆料滞留区域，减少固体颗粒沉积、结块风险，可适配二氧化硅、氧化铝、铈基、铜抛光等多种体系 CMP 研磨液。接液材质选用 PFA、PTFE 全氟树脂，耐酸碱、耐浆料磨蚀，材料析出低，满足半导体高洁净流体管路要求。

泵体采用无轴封设计，依靠压缩空气驱动波纹管往复运动实现吸排料，不存在机械密封摩擦磨损，从源头减少密封件产生微颗粒污染工艺流体。配合对应型号 PA-C 系列蓄能器（PA-C10MB、PA-C20MB、PA-C40MB），可有效抑制出口压力脉动，稳定浆料供给流量，保障 CMP 抛光工艺一致性。

标配 PILLAR Super300 型 PFA 接头，方便和高纯管路对接，简化现场管路安装。传感器版本可实时反馈泵行程状态，用于故障预警，适配自动化连续生产的半导体产线。

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应用行业：半导体制造 典型应用场景

CMP 研磨液调配罐到抛光主机的浆料输送 

研磨液旁路持续循环，防止浆料静置沉降 

晶圆抛光工艺供给回路、化学品高纯输送 

选型提示

在 CMP 研磨液泵选型时，除流量压力参数外，还需要重点关注泵内部流道结构、接液材质、颗粒产生风险以及压力脉动指标。PILLAR 皮拉 PC 系列气动波纹管泵，兼顾低颗粒、低脉动、防积料的需求，是 CMP 浆料输送场景中可供参考的泵型。