PILLAR皮拉 PC系列气动波纹管泵，半导体CMP研磨液输送浆液泵

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半导体晶圆制造 CMP 化学机械抛光工序，对研磨浆料输送设备有着严苛要求。CMP 研磨液含大量固体颗粒，易沉降、团聚，输送过程一旦产生颗粒污染或压力波动，会直接影响晶圆抛光良率。株式会社 PILLAR 皮拉推出 PC 系列气动波纹管泵，专为 CMP 研磨浆料输送、旁路循环工况打造，是半导体抛光产线常用的高纯浆料输送设备。

PILLAR 皮拉 PC 系列 CMP 研磨液泵包含 PC-10MB、PC-20MB、PC-40MB 基础型号，以及带行程监测传感器的 PC-10MBT、PC-20MBT、PC-40MBT。泵体采用垂直波纹管结构，内部流道平滑，减少浆料滞留，缓解研磨液沉降结块问题，适配二氧化硅、氧化铝、铈系、铜抛光等多种 CMP 浆料。

该系列气动波纹管泵接液部件采用 PFA、PTFE 全氟树脂材质，耐酸碱腐蚀、低析出，满足半导体高洁净制程标准。采用无轴封结构，依靠气动驱动波纹管完成吸排液，消除机械密封磨损产生颗粒的隐患。搭配配套 PA-C 系列蓄能器（PA-C10MB、PA-C20MB、PA-C40MB），实现低脉动供液，稳定出口压力，保障 CMP 抛光工艺连续性。

可选传感器版本可实时采集泵体动作信号，接入产线 PLC 系统，实现运行监控与异常报警，适配自动化半导体产线。泵体标配 PILLAR Super300 型 PFA 接头，方便对接高纯管路系统。

应用行业：半导体制造行业 典型应用场景：晶圆 CMP 化学机械抛光工艺、研磨液调配罐输送、浆料旁路防沉降循环、抛光机研磨液供给回路。

在半导体晶圆抛光的浆料输送场景中，选用合适的 CMP 研磨液泵，能够减少浆料浪费，稳定抛光工艺参数。PILLAR 皮拉 PC 系列 PFA 接液波纹管泵，凭借无颗粒风险、低脉动、不易积料等特点，广泛应用于各类 CMP 产线浆料输送需求。

PILLAR 皮拉 PC 系列气动波纹管泵｜半导体 CMP 研磨液输送专用浆料泵版本 B：半导体 CMP 浆料输送解决方案，皮拉 PC 系列 CMP 研磨液泵介绍

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株式会社 PILLAR 皮拉 PC 系列气动波纹管泵为半导体 CMP 工艺开发，型号含 PC-10MB、PC-20MB、PC-40MB 及传感器款。PFA/PTFE 接液、无轴封设计，减少浆料沉降，搭配 PA-C 蓄能器实现低脉动输送，用于晶圆抛光研磨液输送与循环。