实验室晶圆光刻设备日本科研(DNK)曝光机DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产，比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光，面板尺寸最大能做到500×500mm，光源用的是超高压汞灯，功率从500W到3.5kW不等，光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。

实验室晶圆光刻设备日本科研(DNK)曝光机

DNK曝光机的技术特点核心是灵活的光学系统、稳定的曝光控制以及适配多种工艺，特别适合小批量生产和实验研究。DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产，比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光，面板尺寸能做到500×500mm，光源用的是超高压汞灯，功率从500W到3.5kW不等，光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。

一、光学系统灵活可调

‌光源选择多样‌：支持500W、1kW、2kW、3.5kW超高压汞灯，能根据材料厚度和精度需求灵活搭配。

‌光学组件可定制‌：配备多种透镜和聚光镜，可优化光束均匀性和聚焦效果，适应不同尺寸的基板。

二、曝光模式与精度控制

‌支持接触/接近曝光‌：接触式（软/硬）适合高精度成像，接近式减少基板损伤，兼容性广。

‌自动间隙控制‌：MA-1200A等机型能稳定控制曝光距离，确保成像一致性。

三、适用场景与工艺

‌小批量生产利器‌：专为高混合、小批量设计，适合PCB、FPC、LCD、HDI等行业。

‌实验研究友好‌：支持多种基板尺寸（500×500mm），满足科研和试制需求。

四、其他实用设计

‌能量均匀性高‌：部分型号（如MA-4100）能量均匀性≥90%，提升曝光质量。

‌结构稳固耐用‌：采用不锈钢材质，净重达900KG，确保设备稳定运行。

实验室晶圆光刻设备日本科研(DNK)曝光机

这是一种手动批量曝光设备，设计紧凑。

主要特征

MA-1200、MA-1300、MA-1400

·这是一种手动批量曝光机，适用于实验和研究，兼容玻璃、晶圆、薄膜等。也非常适合小批量生产。

·提供接触式曝光(软和硬接触)和近距离接触。

·兼容为500毫米×500毫米的基材。根据应用和基底尺寸，它配备了组合光学系统，组合了超高压汞灯(500瓦、1千瓦、2千瓦、3.5千瓦)与各种反光镜、特殊透镜和聚光透镜。

MA-1200A

·手动散装暴露机适合高混合、小批量生产、实验和研究，实现稳定的自动间隙控制。

·通过减少占地面积来节省空间。