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DNK/日本科研株式会社实验科研桌面矫正器DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产,比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光,面板尺寸最大能做到500×500mm,光源用的是超高压汞灯,功率从500W到3.5kW不等,光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。
DNK光刻机日本科研dnk基底粘结设备/曝光机DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产,比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光,面板尺寸最大能做到500×500mm,光源用的是超高压汞灯,功率从500W到3.5kW不等,光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。
DNK自动近距离曝光系统日本科研曝光设备DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产,比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光,面板尺寸最大能做到500×500mm,光源用的是超高压汞灯,功率从500W到3.5kW不等,光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。
日本DNK科研株式会社垂直近距光刻系统DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产,比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光,面板尺寸最大能做到500×500mm,光源用的是超高压汞灯,功率从500W到3.5kW不等,光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。
FPD光刻设备科研(DNK)垂直近距离曝光机DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产,比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光,面板尺寸最大能做到500×500mm,光源用的是超高压汞灯,功率从500W到3.5kW不等,光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。
曝光机DNK/日本科研垂直近距离曝光系统DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产,比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光,面板尺寸最大能做到500×500mm,光源用的是超高压汞灯,功率从500W到3.5kW不等,光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。