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产品型号：horiba
更新时间：2026-08-24
厂商性质：代理商
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半导体制造气体流量计HORIBA堀场D700MG、半导体制造气体流量计HORIBA堀场D700MG
D700MG
高响应压力非敏感质量流量器
关键的半导体制造过程不断要求精确的气体流量控制设备，以实现未来的创新，以及的存储和逻辑设备的实验室到工厂的过渡。HORIBA公司提出了新的基于压力的MFC D700MG, D500MG的上部兼容型号，以支持客户的挑战。
薄膜沉积工艺：适配 PECVD、PVD、ALD、LPCVD 等设备，用于反应气体、载气的稳定流量配比，保障薄膜沉积均匀性与工艺稳定性。
干法刻蚀工艺：为晶圆刻蚀制程提供持续稳定的工艺气体供给，适配高频气体切换工况，稳定刻蚀速率与形貌一致性。
热处理工艺：广泛用于半导体扩散、退火、氧化等制程，精准控制惰性保护气体、工艺反应气体流量。
HORIBA D700MG摒弃传统热式测温检测方式，采用成熟的压差式流量检测原理，核心由高精度压力传感单元、层流限流元件、压电调节阀体与运算控制单元组成。气体流经内部精密限流结构时产生稳定压差，设备通过采集实时压差、温度信号，结合内置标定算法换算标准质量流量。依托压力式检测架构，设备具备良好的压力不敏感特性，不受上下游供气压力波动、后端负载变化干扰，无需依赖前端高精度稳压装置，即可实现持续、稳定的闭环流量调节，适配各类先进制程MFC量产工况。
HORIBA D700MG压力不敏感质量流量模块适配半导体工艺气体控制全流程应用，广泛用于干法刻蚀、PECVD、PVD薄膜沉积、扩散、退火等工艺的载气、反应气精准配比与稳定供气。同时适配精密实验室配气、特种气体流量管控、精密设备供气场景，是半导体制程通用性的压力式MFC。
HORIBA D700MG、堀场D700MG、CRITERION D700MG、压力不敏感质量流量模块、压差式MFC、半导体气体流量计、精密质量流量控制器
压力不敏感MFC、≤100ms高速响应、EtherCAT通讯、低泄漏MFC、超洁净MFC、压电阀闭环控制、预测性维护、多气体多量程可调
半导体工艺气体控制、刻蚀气体配比、薄膜沉积供气、先进制程MFC、高纯腐蚀性气体控制、量产设备气路控制
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