大日本DNK科研株式会社垂直近距光刻系统DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产，比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光，面板尺寸最大能做到500×500mm，光源用的是超高压汞灯，功率从500W到3.5kW不等，光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。

FPD光刻设备科研(DNK)垂直近距离曝光机DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产，比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光，面板尺寸最大能做到500×500mm，光源用的是超高压汞灯，功率从500W到3.5kW不等，光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。

曝光机DNK大日本科研垂直近距离曝光系统DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产，比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光，面板尺寸最大能做到500×500mm，光源用的是超高压汞灯，功率从500W到3.5kW不等，光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。

科研(DNK)日本曝光机垂直近距离曝光系统DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产，比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光，面板尺寸最大能做到500×500mm，光源用的是超高压汞灯，功率从500W到3.5kW不等，光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。

大日本科研(DNK)光刻机非接触近接暴露装置DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产，比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光，面板尺寸最大能做到500×500mm，光源用的是超高压汞灯，功率从500W到3.5kW不等，光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。

非接触式曝光机DNK大日本科研近距光刻系统DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产，比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光，面板尺寸最大能做到500×500mm，光源用的是超高压汞灯，功率从500W到3.5kW不等，光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。