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大日本科研(DNK)非接触式近接FPD用露光装置DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产,比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光,面板尺寸最大能做到500×500mm,光源用的是超高压汞灯,功率从500W到3.5kW不等,光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。
大日本科研(DNK)株式会社胶片用曝光装置DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产,比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光,面板尺寸最大能做到500×500mm,光源用的是超高压汞灯,功率从500W到3.5kW不等,光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。
日本MEMS用曝光装置科研(DNK)曝光机DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产,比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光,面板尺寸最大能做到500×500mm,光源用的是超高压汞灯,功率从500W到3.5kW不等,光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。
大日本科研DNK无掩膜曝光装置光刻设备DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产,比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光,面板尺寸最大能做到500×500mm,光源用的是超高压汞灯,功率从500W到3.5kW不等,光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。
(DNK)大日本科研高速绘图无掩膜光刻设备DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产,比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光,面板尺寸最大能做到500×500mm,光源用的是超高压汞灯,功率从500W到3.5kW不等,光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。
日本图像曝光机科研(DNK)无掩膜光刻设备DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产,比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光,面板尺寸最大能做到500×500mm,光源用的是超高压汞灯,功率从500W到3.5kW不等,光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。