日本HORIBA堀场质量流量计，半导体工业钻石MPCVD)金刚石 MPCVD专用质量流量控制器。该质量流量控制器可以控制不同范围的流量：10 SCCM至1000 SLM。SEC-N100系列还支持各种通信模式，SEC-N100系列应用于半导体及电子制造行业、光伏新能源行业、分析仪器与科研实验室、生物医药与化工领域、镀膜、环境监测、一般工业制程。半导体及电子制造行业用质量流量计HORIBA

日本HORIBA堀场质量流量计，半导体工业钻石MPCVD)金刚石 MPCVD专用质量流量控制器。

SEC-N100 系列

数字式质量流量控制器

SEC-N100 系列适用于各种行业和应用。该质量流量控制器可以控制不同范围的流量：10 SCCM 至 1000 SLM。SEC-N100 系列还支持各种通信模式，即数字/模拟、DeviceNet™、CC-Link™ 、PROFIBUS™ 和 EtherCAT® 。SEC-N100 系列提供高精度（+/- 1.0% 设定点 *1）和高速响应。该质量流量控制器还具有多气体/多量程功能，可降低制程成本。

HORIBA 堀场 SEC‑N100 系列 数字式质量流量控制器

在精密制造、科研实验与工业生产当中，气体流量的稳定、精准控制，直接决定工艺良率、产品品质以及实验结果可靠性。HORIBA 堀场 SEC‑N100 系列数字式质量流量控制器 (MFC)，作为一款高性能热式气体流量控制设备，兼顾宽量程、高精度、高速响应与灵活通讯能力，覆盖微流量到大流量工况，适配众多工业领域的气体管控需求

多气体/多量程系统使用户可以自由更改气体类型或满量程流量。

半导体及电子制造行业用质量流量计HORIBA、半导体及电子制造行业用质量流量计HORIBA

HORIBA 堀场数字式质量流量控制器 SEC-N100 系列规格

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SEF-N176R

应用场景

1、半导体及电子制造行业

可用于刻蚀、沉积、离子注入、扩散等非芯片半导体制程，特种高纯工艺气体的精准输送与流量调控；LED、OLED、显示面板镀膜生产线气体供给控制，保障镀膜工艺稳定性。

2、光伏新能源行业

太阳能电池片镀膜、扩散工序、等离子清洗等环节，氢气、氩气、氧气等工艺气体流量闭环控制，助力提升电池转换效率与产线良率。

3、分析仪器与科研实验室

气相色谱、质谱设备载气控制；材料实验、等离子反应、催化实验、真空实验供气管控，为科学实验提供稳定可控的气源条件。

4、生物医药与化工领域

真空冻干设备气体供给、精细化工气体配比、实验室反应釜供气控制，满足洁净工况下气体流量精准调节。

5、镀膜、环境监测、一般工业制程

功能玻璃干法镀膜、废气检测、燃烧配比、热处理工艺供气控制，广泛适配各类工业自动化气体控制系统。

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