非接触式曝光机DNK/日本科研近距光刻系统DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产，比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光，面板尺寸最大能做到500×500mm，光源用的是超高压汞灯，功率从500W到3.5kW不等，光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。

非接触式曝光机DNK/日本科研近距光刻系统

DNK曝光机的技术特点核心是灵活的光学系统、稳定的曝光控制以及适配多种工艺，特别适合小批量生产和实验研究。DNK的曝光机主要用于科研和小批量生产，比如液晶、晶圆、胶片这类材料的实验和加工。 它支持接触式和接近式曝光，面板尺寸能做到500×500mm，光源用的是超高压汞灯，功率从500W到3.5kW不等，光学系统可以灵活组合镜片和透镜来适配不同需求。

一、光学系统灵活可调

‌光源选择多样‌：支持500W、1kW、2kW、3.5kW超高压汞灯，能根据材料厚度和精度需求灵活搭配。

‌光学组件可定制‌：配备多种透镜和聚光镜，可优化光束均匀性和聚焦效果，适应不同尺寸的基板。

二、曝光模式与精度控制

‌支持接触/接近曝光‌：接触式（软/硬）适合高精度成像，接近式减少基板损伤，兼容性广。

‌自动间隙控制‌：MA-1200A等机型能稳定控制曝光距离，确保成像一致性。

三、适用场景与工艺

‌小批量生产利器‌：专为高混合、小批量设计，适合PCB、FPC、LCD、HDI等行业。

‌实验研究友好‌：支持多种基板尺寸（500×500mm），满足科研和试制需求。

四、其他实用设计

‌能量均匀性高‌：部分型号（如MA-4100）能量均匀性≥90%，提升曝光质量。

‌结构稳固耐用‌：采用不锈钢材质，净重达900KG，确保设备稳定运行。

非接触式曝光机DNK/日本科研近距光刻系统

这是一种非接触式近接暴露装置，配备边缘和间隙传感器。它非常适合触摸面板、OLED及其他产品的大规模生产。

主要特征

·在标准机器上，自动对准时，调度时间约为20秒(设置为0.5微米以实现自动校准)。不包括暴露时间)。

·直接读取间隙传感器和独特的控制采统允许快速且准确地设置掩膜与基底之间的接近间隙。

·我们准备了一个环境舱，严格控制协工单元的温度。此外，还可以使用舞台温度控制系统防止基材因高温而膨胀和收缩。

·为防止因面罩与玻璃基材温差引起的膨胀和收缩，可以选择基底阶段温控和面罩冷却系统。（可选）

·它可以配备一个可存储5个面具的面具库。